二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9160447 待售
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已售出
ID: 9160447
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Defect review system, 12"
Tool model: DRSEM G2
Loading configuration: TDK TAS300 Loadport
BROOKS Robot
Beam source: SE-Gun tip
Resolution: 4nm (1 keV at tilt 0°)
Column vacuum: < 5.0E-10 torr
Throughput: 11 Wafer/hr
SEM Accelerating voltage: 600 V - 15 kV
Magnification: 500x - 200000x
Multi perspective SEM imaging
Gun life time: >1 year
Optical microscope: 2.5x / 20x / 100x
Tilt: 0°, 15°, 45°
Image format: TIFF
Function:
Optical microscope
Automatic defect review
Automatic defect classification
Column tilt 45°
SDD
EDX Standard type
Component:
Main unit
Operator console
EPDU
UPS
FFU
Isolation block
EDX Compressor
System power rating: 208 VAC, 3-Phase
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2是一个最先进的掩模和晶圆检验系统,旨在对缺陷分析、产量和工艺优化、光掩模修复、掩模配准和对准等领域进行一整套关键的国际标准测试。该产品采用强大的高频电子束(E-Beam)工具,用于对掩模特性进行快速准确的评估。它还具有自动特征识别(AFR)模块,用于自动检测电子束产生的图像中的模式和缺陷。AMAT SemVision G2提供高分辨率晶片和掩模的二维成像,并提供成像和E-Beam的直接集成。这种高性能系统允许多级垂直和横向扫描控制,并提供微调算法来监视关键掩码参数。它与Allen-Bradley支持面向过程编程的Logix 5000平台集成在一起,允许在生产环境中轻松集成。APPLICED MATERIALS SemVision G2具有多种蒙版优化工具:Image Match,用于识别蒙版图像中的相似图样;Auto-Align and Compare,用于掩码配准和对齐;以及各种为改善表面和结构特性而专门设计的引线框架增强算法。该产品还包括先进的E-Beam合成软件,可提高性能和准确性。SemVision G2提供独特的分层感知校准功能,有助于优化舞台运动。该产品还提供自动本地像素调整,从而减少了手动调整的需要,并消除了可能出现的错误。它允许智能错误识别,并支持最新的缺陷分类。AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2提供高效晶圆检查,并提供全面的计量能力。它与各种工艺缺陷兼容,包括化学机械平面化(CMP)缺陷、隔离颗粒、亚微米颗粒和化学机械抛光(CMP)工艺均匀性。产品可以处理电介质,包括Si,以及TaN、Ta2O5和HfO2层。AMAT SemVision G2提供了多种工具,可帮助满足任何高端晶圆检查应用程序的需要。该产品非常适合任何需要快速、准确、高性能结果的环境。它提供了对MISRA-C++编码标准的全面支持,并且可以配置为符合行业安全标准。
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