二手 AIXTRON AIX 2600 G3 HT #9352600 待售

AIXTRON AIX 2600 G3 HT是一种模块化、大功率、分子束外延（MBE）生长设备，设计用于生产高品质、外延层。它是一个多区域设计,包含三个独立加热的区域,分别覆盖Growth、Shadow和Analyser范围,以及第四个未加热的区域,用于光学表征。该系统允许对适合生产复合半导体材料如GaAs、InP、GaN、AlGaAs、InGaAs等的薄膜进行精确控制的逐层沉积。AIX 2600 G3 HT的生长区是其最大的，达到500至1000°C的温度，在所有三个区域都有独立的温度控制。该装置的稳定温度减少了整个生长周期内不可避免的温度波动次数，促进了独立的纤薄层的均匀、可重现的生长。影子区作为设备内的一个额外的生长区，经常被用作分析器和生长区之间的缓冲区，从而防止分析器区的直接污染。分析仪区由高分辨率光谱仪组成，能够对生长参数进行连续的在线监测。这是借助石英晶体微平衡（QCM）和石英晶体电平衡（QEB）技术完成的。这些措施允许精确调整生长参数，以便在基板上形成均匀的单晶材料。此外,AIXTRON AIX 2600 G3 HT还配备了功能强大的4通道光学视图单元和额外的特写摄像头,使机器极其方便用户使用,并能够以尽可能高的分辨率优化光学特性。它还利用EasyScan软件包,该软件包使用线扫描密度计定量测量正在生长的层的厚度和组成。AIX 2600 G3 HT所启用的所有这些特性使其成为制造先进半导体材料和器件结构的高度通用和强大的反应堆。其无懈可击的精确度和可重复性使得高质量的薄膜层能够以最高的效率生长。