二手 BREWER SCIENCE CEE 100 #9265628 待售

BREWER SCIENCE CEE 100光抗蚀剂是一种化学放大、负功、干膜抗蚀剂系统，旨在满足微电子、微机械和光学行业的需求。它提供高分辨率和高产率、低曝光后延迟、优越的成像过程纬度以及最小的线宽和线缘粗糙度。抗蚀剂由树脂和显影剂两种不同的组分组成。树脂通常是携带负电荷的聚合物，带有离子键合表面活化添加剂。这种组合有助于光刻胶吸收光，从而产生潜像。以其抗蚀剂的形式，树脂被涂抹在基板之上的薄层中，如晶圆。当暴露在某种紫外线波长的光下，树脂吸收光而变成固体质量，也就是湿的图像。然后将显影剂应用到湿的图像上,并保留在暴露的区域上,这样显影剂中只覆盖未暴露的区域。开发人员帮助移除抗蚀剂的非暴露部分,以显示原始图案的图像。BREWER SCIENCE CEE-100光刻胶的优点是其过程纬度和低曝光后延迟。它具有高分辨率,最小特征尺寸为0.5 um,产量高.它具有最小的线条和边缘粗糙度,并提供出色的成像.它还具有较长的保质期，相对容易加工。工艺纬度对于光刻极为重要，因为它确保无论曝光条件如何，都能产生高分辨率图像。CEE 100光抗蚀剂适用于多种应用，包括标线面罩和步进和扫描面罩、微机电系统（MEMS）、光盘、逻辑和内存芯片、薄膜晶体管（TFT）帧和功率半导体芯片。也用于高能电子束光刻、低能电子束光刻和液浸光刻。总之，CEE-100光致抗蚀剂是寻求高分辨率图像的理想产品，同时具有最小的线宽和线缘粗糙度。它适用于短期和长期性能要求,同时易于处理。其保质期长，是广泛应用的理想选择。