二手 BREWER SCIENCE CEE 200 #9265629 待售

BREWER SCIENCE CEE 200 Photoresist Equipment是一种先进技术公司和研究机构使用的工具,它可以利用光刻工艺创建难以置信的详细电路和结构。光刻工艺包括保护工件的某些区域不受强蚀刻的影响，从而产生一种耐蚀刻材料。光刻胶系统使用光源使用蒙版模板将光源"绘制"到工件上,该蒙版模板可以精确地使用抗磨胶材料照射区域。CEE 200光刻装置由钢制光刻枪、两个不锈钢滚筒和两个线轴分离器组成，使用户能够进料并精确控制所需材料的数量。它还包括用于手动防腐应用的工具，以及用于喷涂涂层和泡沫应用的附件。其他附件如旋转涂层、边缘珠子和传送器臂,可以对抗蚀剂的应用进行更精确的控制。用于BREWER SCIENCE CEE 200光刻机的光刻胶材料有两种不同的厚度，即75纳米和500纳米。抗蚀剂材料会以不同的方式对光产生反应，这取决于选择的厚度，以给出不同等级的蚀刻电阻和线条分辨率。材料分为CEE-A型，用于低光强度应用，CEE-B型，特别适合高分辨率设计，需要有效的防光。CEE 200光刻工具具有一系列特性，使其能够促进各种微电子光刻工艺。它除了具有快速、准确的抗性应用能力外，还具有高温范围的操作环境（最高200 °C）。该资产还具有串联的计算机控制，允许用户快速调整流程，以确保准确性和防止缺陷。它也有一系列的除气选项，以消除空气口袋从抗蚀剂材料和内置显示器，可以指示任何缺陷或错误的抗蚀剂应用。自1990年代末推出以来，BREWER SCIENCE CEE 200光阻模型在包括集成芯片、晶体管、二极管、LED在内的各类电子元件的生产中被广泛采用。该设备能够产生令人难以置信的细线和特征，分辨率为0.5µm（微米），对于现代微电子的生产已经成为必不可少的。CEE 200光阻系统提供了一种有效和可靠的方法来创建精确和详细的结构,这些结构对于创建高性能电子设备至关重要。