二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181758 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II光刻设备是一种用于光刻和微电子制造的顶级光刻设备。光敏材料是一种光敏材料，用于在半导体材料上创建图样以制造半导体器件。TEL MARK II利用最新技术为光刻胶加工提供精确、可重复的条件。该系统由几个部件组成，包括处理器单元、数字接口、光刻胶增益控制器、腔室控制和晶圆处理单元。处理器单元最多可支持30种不同类型的容器，用于处理光刻胶，包括传统的自旋和喷涂应用。这保证了TOKYO ELECTRON MARK II机可以使用广泛的光刻胶。处理器单元还包括温度和基于时间的可编程参数,以及用于评估光刻胶质量的光粒计选项。数字界面可方便地将该工具与其他光刻系统集成,并可实现简化的自动化工作流程。光刻胶增益控制可确保在曝光过程中使用正确量的光能。腔室控制模块将高精度温度控制与真空泵和再循环结合在一起，使光刻胶的工艺温度保持一致。最后，晶片处理资产确保了基板在从主处理器单元移动到腔室时的精细而准确的运动。该模型还包括一个不断监测光刻胶厚度的传感器设备，以及实时过程数据记录。这允许修改工艺以考虑光刻胶厚度的变化并缩短工艺时间。此外，还有一些环境传感器可以监测光敏环境的温度和湿度。这样可以确保保持光刻胶处理的最佳条件。总体而言，MARK II是一个强大而先进的光刻胶处理系统。配合人性化的操作、一流的性能、精细的操控，是生产高品质光刻胶的完美单位。