二手 AIXTRON 2000 #9222202 待售

AIXTRON 2000是一种多室、矩形、低压金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器，设计用于薄膜沉积应用。这座反应堆使研究人员和工程师能够将复合半导体层精确地沉积在各种底物上。2000年设三个单独分庭；主室、排气室和惰性气室。主室包含基质材料，并允许将传入的前体材料分解并雾化到基质上。排气室用于将反应产物从工艺室排出，而惰性气室则防止环境污染。AIXTRON 2000利用垂直安装的氢化物灯为化学气相沉积过程提供能量。这些灯提供了250-400 nm范围内的紫外线（UV）能量，使传入的前体材料分解，使薄膜沉积所需的化学反应成为可能。反应堆的精密过程控制是在350-420°C的可调温度范围内实现的。通过1-105毫巴的压力控制和可调气阀控制，对工艺气体的流量进行了精确的调节。2000年的内置安全功能提供了防止过程中断、过压和过热的保护。AIXTRON 2000的多功能性是其在该领域取得成功的关键。例如，2000可以有效地沉积、蚀刻和清洁各种复合半导体层。也适用于沉积二极管、薄膜晶体管、LED、肖特基势垒等复合半导体器件。AIXTRON 2000提供了一个无害环境的备选方桉，其废物产生最少，挥发物排放少，除前体气体外没有危险材料。此外,其坚固耐用的设计和较低的维护要求使2000能够长时间可靠地运行。总之，AIXTRON 2000是一种独特的MOCVD反应器，它结合了鲁棒性和精确的过程控制，使科学家和工程师能够准确可靠地沉积各种薄膜层。其操作参数多种多样、环境友好、维护少，是工业复合半导体沉积的理想选择。