二手 AIXTRON 2600G3 HT #9233663 待售

AIXTRON 2600G3 HT是一种先进的、高性能的、封闭容器的化学气相沉积（CVD）反应器。该反应器旨在为各种材料提供可靠和高质量的薄膜沉积。AIXTRON 2600 G3 HT适用于半导体和其他薄膜涂层应用，如金属、氧化物和氮化物的沉积。2600G3 HT的核心是坚固的沉积室，它由安装在刚性框架上的不锈钢墙和地板组成。这种设计允许在建造时对腔室进行均匀加热和冷却，以提供可靠和长寿命的操作。该设备最显着的特点是先进的温度控制系统，能够精确控制温度剖面和过程重复性。这使得沉积非常稳定，薄膜表面缺陷最小化。2600 G3 HT还配备了集成的两步高温计，在过程中提供实时温度测量。3900A装置提供了更高的安全性和持续的机器生命周期，确保了一致和高质量的薄膜沉积。它的快速负载锁定机制允许连续操作，并为晶片提供快速周转时间。这种增强的工具安全性也由集成的TC预警资产负责，该资产监测晶圆和夹具的温度，以确保晶圆不会暴露在不安全的条件下。除了用户友好可靠的运行，AIXTRON 2600G3 HT反应堆还通过先进的淋浴头技术提供优化的薄膜分布。喷头设计减少了不同晶片层之间的变化，从而确保了沉积过程的均匀性。通过良好的气体和流体流动传递以及溷合，进一步提高了工艺稳定性，形成了粒径均匀、能量均匀的颗粒均匀沉积。最后,利用高脉冲电流电源,AIXTRON 2600 G3 HT可为超精确厚度控制提供最高分辨率的超细涂层。总体而言，2600G3 HT是一种高度创新和可靠的反应堆，旨在帮助客户制造精确、高质量的金属、氧化物和氮化物薄膜涂层。其先进的温度控制模式、增强的安全措施、淋浴头技术，确保了最高质量的重复均匀涂层效果。