二手 AIXTRON 2600 G3 #9375669 待售

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製造商
AIXTRON
模型
2600 G3
ID: 9375669
优质的: 2007
MOCVD System Process: GaN Set up for 8 x 4" and 24 x 2" Turntable 2007 vintage.
AIXTRON 2600 G3是一种来自AIXTRON的先进化学气相沉积(CVD)反应器,用于生长石墨烯等薄膜等材料。该反应堆为用户提供了一个精确精确的精确层厚度控制的高效过程。它配备了一个大的石英腔室和优越的基板加热能力,以及一些旨在降低成本和提高工艺质量的特点。AIXTRON 2600G3利用AIXTRON先进的扩散深温均匀性(DTU)系统进行精确的层厚度控制。该系统监控整个基板上的温度和溷合物,这有助于确保薄膜均匀生长并达到所需厚度。此外,它还具有低增长率系统,可进一步确保沉积过程中的均匀层和提高稳定性。反应堆有一大系列可能的底物大小和形状,这意味着膜可以生长到几乎任何给定的底物。它还有一个宽敞的石英室,允许更大的基材尺寸和增加覆盖面积。2600 G3具有快速加热技术,具有热墙和冷墙加热能力.这有助于缩短整体加工时间,提高生产产量,因为热量更快地传递到基板上。在安全性方面,2600G3有一个完全自动化的过程,在加工过程中限制人工接触材料。它有一个封闭的结构,有助于确保操作安全,同时保护室内环境。反应堆可配备一系列传感器,包括氧气、压力、温度和流量传感器,用于监测环境并在安全风险情况下向用户发出警报。总体而言,AIXTRON 2600 G3是一种可靠、精确的化学气相沉积反应器,具有高温均匀性和各种可能的底物尺寸和形状。其自动化工艺和广泛的安全特性使AIXTRON 2600G3生产薄膜和均匀沉积材料的绝佳工具。
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