二手 AIXTRON AIX 2000 #9376992 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

製造商
AIXTRON
模型
AIX 2000
ID: 9376992
优质的: 1997
System Does not include NESLAB chillers Process: GaAs / InP PC Part number: 40040471 Planetary disk 5" x 3" d238 H=12 Susceptors CAD A2 UT218 Graphite Part number: 40040227 Rotation susceptor CAD Al UT 234 Uncoated ¢246 x 28 Part number: 40040243 (5) Disks, 2"-3" Uncoated ¢84 x 5 Susceptor CAD A4 Graphite reinst 1997 vintage.
AIXTRON AIX 2000反应器是一种先进的化学气相沉积设备,用于生长薄膜。是利用低温反应在基板上沉积薄膜的单室水平管炉系统。AIX 2000有一个集成的石英管,连同内外加热元件。AIXTRON AIX 2000设有气动密封门,让製程气体进入排空的炉管,製程物理上阻止了环境空气的渗透。AIX 2000具有许多可用的过程控制功能,使其能够高度适应许多沉积应用。它包含一个集成的自动化过程控制单元,可以精确控制炉管内部的沉积速率和温度。它还利用气体管理机器,允许独立控制气体成分和流量,以及压力控制和监测。AIXTRON AIX 2000设计用于高度可控、可重复和可靠的薄膜沉积处理。它有一个两区加热工具,允许加热样品和基板表面以进行均匀的低温沉积反应。它还提供了一个低温反应环境,在热循环过程中消除了对底物或样品的损害。AIX 2000的工艺室有内置的气体管理资产和先进的冷却模式。这允许各种高质量的薄膜应用,具有精确和可控的沉积速率。AIXTRON AIX 2000反应堆有一个内置的光学设备,允许操作员监测增长进度,也可以监测沉积质量。AIX 2000反应器是沉积光学活性金属氧化物薄膜的高效、经济高效的工具。可用于各类薄膜相关研究项目,如LED制造、太阳能电池制造、光学器件、光伏电池、光电膜等。此外,AIXTRON AIX 2000反应堆还配备了多种工艺控制功能,包括压力控制、温度控制、气体成分控制、气体流量控制。总体而言,AIX 2000反应堆是一种可靠、经济高效的沉积各种高质量薄膜的工具。它提供了多种先进的工艺控制功能和内置的气体控制系统,以大大降低膜污染的风险。此外,它还有一个先进的冷却装置和一个集成的光学机器来监测薄膜沉积质量和均匀性。
还没有评论