二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305773 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9305773
优质的: 2008
MOCVD System Size: 42"x2" 2008 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4HT是一种金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,设计用于先进材料的高效可靠的异质结构生长和沉积。这种精密的沉积装置具有一个具有热墙设计的四区工艺室。其先进的温度控制环路确保了高质量异质结构的精确重复沉积条件。AIXTRON AIX 2800G4-HT还提供了一系列功能,以最大限度地提高用于制造LED、激光器、太阳能电池和电子设备的不同类型材料的高纯度沉积工艺窗口。AIX 2800G4 HT的第一个关键特征是其四区加工室。这种布置允许更有效的过程控制,减少整个晶片的热梯度,提供更均匀的沉积性能。该工艺室还配备了加热的转移臂,这使得底物可以快速转移进出反应室,而不会使晶片暴露在过高的工艺温度下。此外,AIX 2800G4-HT还具有先进的温度控制回路,可快速适应压力变化和基板方向,以保持在所需的目标温度范围内。AIX 2800 G4HT还为不同的沉积应用提供了一套先进的沉积参数,以最大化过程窗口。它配备了最多五个可用于不同沉积配方的杂交淋浴头。其先进和高效的气体输送设备允许将前体均匀分配到工艺室,而先进的工艺监测系统则有助于保持工艺参数与最佳生长配方保持一致。AIXTRON AIX 2800 G4HT还提供了高效的基板处理机制。它具有兼容的旋转单元,允许同时、独立地处理多达三个基板,从而实现高吞吐量。高精度机器人确保晶片在工艺室内的精确定位,以实现长期稳定运行。最后,它的集成过程控制软件是用户友好的,并提供了一系列先进的自动化功能,以减少操作员的干预。AIXTRON AIX 2800G4 HT是一种先进的MOCVD反应堆,经过优化,可为LED、激光、太阳能电池和集成电子等多种应用提供可靠和可重复的沉积性能。其四区腔室提供了对工艺参数的精确控制,而其先进的温度控制环路和自动处理机则确保了高效可靠的沉积操作。
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