二手 AIXTRON Crius 31x2" #9283178 待售

AIXTRON Crius 31x2反应堆是一种精密高效的工具，用于生产薄膜材料。它利用电子回旋共振（ECR）等离子体技术，创造出一种强大的电离电子来源，可在薄膜环境中对原子和分子进行反应。这项技术允许在环保的过程中快速生产和沉积优质薄膜。AIXTRONCrius 31x2反应堆由三个主要部分组成：（1） ECR等离子体源、（2）反应堆室和（3）基板支架。ECR等离子体源由一系列由射频（RF）源供电，在反应堆内产生高能等离子体环境的磁绝缘永磁电极组成。等离子体源被设计成在整个反应堆腔室中保持恒定的均匀功率密度分布，从而在薄膜沉积中实现最大效率。反应堆腔室本身由一系列连接的高导电铜线圈组成，确保腔室内壁的温度均匀。附着在腔室上的真空系统允许引入薄膜沉积所需的气体，以及调节腔室壁以获得最佳薄膜生长。基板支架专门设计用于容纳玻璃、石英、硅等多种薄膜基板。然后将基板穿过磁性线圈，暴露在强烈的等离子体环境中。AIXTRON Crius 31x2反应堆是为几种不同的沉积过程编程的，这取决于所需的材料和材料组成。该反应堆利用低压溅射技术沉积金属、半导体或绝缘薄膜基板。这是通过将惰性气体引入腔室，并使其与目标材料反应生成沉积在薄膜材料上的带电粒子来完成的。这一工艺效率高，在其广泛的应用范围内产生了优越的薄膜质量和均匀性。AIXTRON Crius 31x2反应堆还能进行其他更复杂的过程如反应性离子束蚀刻，可以提高目标材料的表面质量，增加其附着力。此外，AIXTRON Crius 31x2反应器利用一系列反馈传感器，确保了快速可靠的薄膜沉积的最佳条件。这使得AIXTRON Crius 31x2反应堆成为许多不同应用需要高效薄膜生产的设施的理想工具。