二手 AIXTRON Crius 31x2" #9353181 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

製造商
AIXTRON
模型
Crius 31x2"
ID: 9353181
优质的: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2是一种两室金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,设计用于生产半导体和光伏材料。它由两个金属有机CVD腔室组成,连接到一个共同的基础单元。这两个CVD腔室的设计有利于均质薄膜的生产和高质量外延层的沉积。第一室,工艺室被用来作为砷化铵(GaAs)、砷化铝法规(AlGaAs)、砷化铝法规(GaAlAs)、砷化铝法规(AlAs)、磷化铵(InP)等材料的生产室。在该腔内,可以进行均质薄膜沉积和更高质量的外延层沉积等工艺。该腔室的一个特点是射频等离子体源,有助于控制膜的生长速率和化学计量纯度。第二室,用烘烤室制备基材作进一步加工。这个腔室有助于减少样品中的表面氧化层,允许更高的生长速率和改善材料特性。可以通过更改可编程温度控制器的设置来简单地处理烘烤过程中的样品温度。此外,该腔室与加热的、过滤过的废气清除设备结合使用,以帮助尽量减少腔室中的污染。预热器连接到两个CVD腔室,这两个腔室负责将基板温度迅速提高到所需的水平,并在两个腔室中均匀分配热量。预热器连接到可编程的温度控制器,使温度能够得到准确的监控和控制。AIXTRON Crius 31x2的基本单元包含主电源、真空泵、气体溷合系统和电子设备。真空泵用来抽出气体,这些气体在两个腔室反应并形成沉积物。气体溷合装置便于在腔室中添加气体进行处理。电子控制整机,负责监测和控制温度、压力、气流等工艺参数。AIXTRON Crius 31x2为生产半导体和光伏材料提供了可靠的多室解决方桉。它配备了快速精确的温度操纵的最新技术,借助加热过滤的废气净化工具提供了清洁的环境。预热器的集成保证了薄膜和外延层的高质量沉积。
还没有评论