二手 AIXTRON Crius II #9272514 待售

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製造商
AIXTRON
模型
Crius II
ID: 9272514
优质的: 2011
MOCVD System 2011 vintage.
AIXTRON Crius II是一种先进的沉积设备,旨在为各种应用提供高效和精确的物理气相沉积(PVD)工艺。反应堆采用了一种"悬浮基板"技术,允许用户改变和改善其薄膜沉积能力。这种技术将基板材料悬浮在加热的基座上,允许在整个基板上均匀沉积,而不会在某些区域聚集或堆积。Crius II能够生产一批尺寸和形状范围很广的基材。AIXTRON Crius II配备了自动化基板处理系统,允许用户调整基板的运动,优化基板相对于沉积源的对准。这使用户能够在基板表面进行精确和可控的厚度变化。此外,Crius II具有创新的沉积源,利用独特的阳极电弧放电工艺,提供高精度的沉积速率和精确的薄膜厚度。AIXTRON Crius II的内部具有先进的空气冷却装置,可确保高效的热量管理,使沉积过程保持整个腔室的一致温度。此外,该室还采用氮气流燃料喷射机,为高质量的沉积过程创造高纯度的气氛。Crius II还配备了先进的诊断工具,利用嵌入式PC监控、获取和分析来自反应堆环境的数据。这有助于用户降低维护成本以及提高基板沉积和涂层的质量。AIXTRON Crius II能够监测环境参数,包括压力、温度和湿度,这有助于确保可重复和一致的沉积结果。Crius II是一种高效可靠的沉积资产,适合广泛的应用。它为用户提供精确的沉积速率和均匀的基板涂层能力,以及具有出色的热管理和数据采集系统的高度可靠的环境。因此,AIXTRON Crius II是用于各种工业的高精度沉积过程的理想反应堆。
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