二手 AIXTRON Crius II #9272522 待售

AIXTRON Crius II是一种高品质的沉积工具，旨在满足研究和工业PECVD（等离子体增强化学气相沉积）社区的要求。Crius II是AIXTRON Crius的升级版，是一款性能可靠、功能广泛的流行工具，以其快速的基板转移和可选的焊接腔室而闻名。AIXTRON Crius II改进了其前身,升级后的Versa Platform™设备包括低压、单室系统、完整的自动化和多种工艺技术。Versa Platform™单元旨在提供通用、可重复和可靠的PECVD解决方桉,同时还提供了改进的产量均匀性、非活动腔室时间和过程灵活性。Crius II标配可编程基板加热机、基板预清洁室，以及平台控制软件对沉积室的高级遥控。此外，该装置还配备了可编程气体输送工具，可用于为多种工艺，包括SiO2、SiN、Ge和Ta2O5输送多达三种前体气体。AIXTRON Crius II的一个独特特点是其先进的介电镜腔配有Z形射频天线，可高效产生具有可变PLD/PECVD功率设置的等离子体。这样就可以提高沉积均匀性以及更高的基材吞吐量。此外，它的光束控制资产确保了平面沉积均匀性和小阴影效果。Crius II有一个可选的Viewpoint™监视和控制模型,它允许操作员实时远程监视沉积室的健康和性能。此设备提供有关沉积过程的最新数据,以及警报系统,以提醒操作员注意任何需要注意的过程问题。为了进一步方便，AIXTRON Crius II也被设计为与其他AIXTRON工具兼容，例如AIXTRON Prodigy Multi-station Unit和AIXTRON SELECT沉积系统。这使得在设置沉积机时具有最大的多功能性，并确保Crius II在今后几年中仍然是可靠和高效的沉积工具。