二手 AIXTRON Crius II #9272528 待售

AIXTRON Crius II是一种DC/RF增强化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于生产高质量的结晶半导体材料。它配备了最先进的直流/射频源、腔室尺寸和先进的工艺控制，使其能够提供最高的材料质量标准。Crius II是AIXTRON系列专用外延反应堆的一部分，旨在为各种半导体提供外延质量。AIXTRON Crius II在沉积过程中具有源和基板之间的直流电（DC），能够产生最纯净的高纯度半导体层。此外，由射频发生器提供动力的谐振频率（RF）源增强了层的结构和组成，从而能够精确控制其特性。Crius II配备了大的源/基板配置，具有大的源/基板配置的高容量旋转区域，以确保均匀的沉积层和高产率。这还辅以车载过程控制系统，为用户提供对生长参数的精确控制，包括沉积速率、温度分布和氧气浓度。为了进一步提高外延晶质，AIXTRON Crius II具有双源、双基板构型，使得多源同时沉积。这样可以精确控制区域到区域的沉积宽度，优化材料质量和晶体取向。Crius II能够在高达1350°C的温度下运行，循环时间低至15分钟。结合AIXTRON Crius II提供的精确工艺控制，这使得它成为精确、快速和高质量外延沉积的理想选择。此外，AIXTRON云计算界面允许对反应堆进行远程监控。总体而言，Crius II是一个高性能的CVD反应堆，通过直流/射频源和车载过程控制系统提供对材料质量的精确控制，加上双源双基板配置的高速和快速循环时间。它是晶体半导体材料生产的理想选择，是快速、高质量生产工艺的理想选择。