二手 AIXTRON Crius #9222205 待售

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AIXTRON Crius
已售出
製造商
AIXTRON
模型
Crius
ID: 9222205
MOCVD System 31x2".
AIXTRON Crius是一种先进的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。它是专门为支持光学、电子和医疗产品开发和生产的广泛应用而设计的。它用途广泛,可与玻璃、塑料、金属和陶瓷等多种基材配合使用。Crius反应堆利用先进和创新的感应耦合等离子体(ICP)源,有效地创造出高密度的辉光放电。这种辉光放电可以精确控制膜的组成、沉积过程参数和膜的均匀性。反应堆的ICP组件将高功率密度与"软启动"功能结合在一起,使运行过程中的灰尘和污染降至最低。反应堆还设有一个温度控制的"冷墙"室,有助于降低噪音和达到均匀的薄膜沉积条件。AIXTRON Crius反应器可用于沉积广泛的薄膜,包括含有氮化物、氧化物、金属和碳纳米管、石墨烯等更奇特的材料的薄膜。它能够将这些材料沉积在广泛的厚度范围内,并提供出色的均匀性和可重复性。它还采用先进的配方控制技术,使整个沉积过程自动化,不需要人工干预。Crius反应器适用于半导体器件制造中使用的薄膜沉积工艺,也适用于光电器件制造。其多才多艺的设计和打造高品质薄膜的能力,使其成为工业和研究应用的诱人选择。它非常适合原型和大规模工业生产,并且具有多种功能,使其易于安装、维护和管理。总体而言,AIXTRON Crius是一种特殊的反应堆,能够为广泛的应用制造高质量、均匀的薄膜。其先进的ICP等离子体源能够对沉积过程进行精确控制,而其"冷壁"腔有助于降低噪声。其用户友好的功能(如自动配方控制功能)使其成为工业生产或研究应用的绝佳选择。
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