二手 AIXTRON LYNX3 #9159015 待售

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AIXTRON LYNX3
已售出
製造商
AIXTRON
模型
LYNX3
ID: 9159015
优质的: 2007
CVD system 2007 vintage.
AIXTRON LYNX3是一种等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器,用于薄膜的高级沉积。LYNX3将线性多束工程、光学诊断、专利圆柱感应射频加热等先进技术与可靠的设备设计相结合,成为薄膜和纳米结构沉积的理想工具。配备了几个硬件和软件组件,AIXTRON LYNX3系统提供了生产高质量薄膜和纳米结构的全面功能。沉积单元利用三个线性多束工程源、光学检测机、感应射频加热和两个喷射器辅助沉积过程。线性多束工程源的设计允许在反应堆腔内电离水平的精确控制,同时允许优质薄膜和纳米结构的生长。此外,光学检测工具具有很高的时间分辨率,在沉积过程中可以检测到各种发射信号。LYNX3还具有专门为薄膜的生产和沉积而设计的感应射频加热资产。该型号采用双面圆柱形感应加热元件,具有低电感、高效、耐用的设计,用于一致和高度控制的射频功率输送。AIXTRON LYNX3上的射频加热元件是可调的,可以与线性多梁工程源独立耦合,以获得最大的工艺灵活性。LYNX3还设有两个喷射口,以便于纳米结构的沉积和最佳利用现有材料。这允许更高的掺杂水平和更高的增长率与更大的过程灵活性。此外,与所有AIXTRON系统一样,AIXTRON LYNX3与各种不同的沉积材料完全兼容,可用于广泛的应用。总体而言,LYNX3是生产和沉积薄膜和纳米结构的通用可靠设备。先进的线性多光束工程、光学诊断和感应射频加热功能使AIXTRON LYNX3经验丰富和新手用户的理想工具。此外,两个喷射口和可调节射频加热元件进一步提高了其柔韧性,使用户能够生产出质量和效率更高的薄膜和纳米结构。
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