二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly #9253660 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly是一种等离子体蚀刻反应堆，旨在提供研发和工业蚀刻过程中的高生产率。该设备是流行的Centura AP平台的高级变体,经过专门设计,可提供更好的蚀刻速率、更高的颗粒减少和更好的整体工艺性能。该系统采用独有的高级高频（AHF）先进电信技术，以最小的应力提供卓越的等离子体生成、均匀性和过程重复性。此外,Minos Poly还具有三个优化的蚀刻级别（低、中、高）,可实现多种处理功能。该装置由AMAT设计的0.7毫升高密度等离子体（HDP）源供电。这个来源提供了对蚀刻化学的极好的控制，允许高k和低k蚀刻配方的精确处理。此外，该源还提供了卓越的工艺均匀性和卓越的蚀刻速率优化，大大降低了等离子体对基材的损伤。这座等离子体蚀刻反应堆配备了真空涡轮泵、屏蔽机、0.1 Pa底压的再循环工具等多种可选配件。此外,Minos Poly能够同时运行直流和MF操作,从而允许定向和非定向蚀刻配置文件。AMAT Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly与各种蚀刻配方兼容,具有先进的控制和监控功能,包括手动和半自动控制。此外，资产还具有广泛的过程监测工具，包括过程温度控制、等离子体发射监测、真空压力监测和粒子计数能力。总体而言,Minos Poly是一款可靠而坚固的型号,可为各种基板提供精确的蚀刻功能。这种等离子体蚀刻反应器非常适合在电子包装、PCB制造、半导体器件制造等行业进行大批量生产、研发和测试应用。