二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9399533 待售

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ID: 9399533
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AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408是一种先进的热化学气相沉积(CVD)反应器设备,设计用于各种材料的沉积。它是一种单晶片系统,具有先进的加热元件,用于硅基材料在半导体中的沉积,包括多晶硅、低压CVD氮化硅等先进材料。反应堆具有0.3、0.6或1.0 μ m的磁感器,具体取决于应用情况。它能够沉积高达1100 °C的温度,并由直流电源供电。这个CVD反应堆有一个独特的气体输送装置,利用三种不同的气源提供超精确、均匀的沉积气体输送。它利用一个多区加热装置,能够将每个晶片精确高效地加热到所需温度。它还有一个严密的过程窗口,允许稳定和可重复的结果在沉积各种材料。AMAT 0010-36408反应堆也有计算机控制接口,允许机器手动或自动操作。使用这个界面,用户可以对沉积参数进行编程,以满足其特定的应用需求,还可以监控晶圆沉积的进度。界面还提供各种有用的诊断工具,以帮助排除任何问题。除了先进的特性外,这种CVD反应器还有一种高效的冷却工具,可以防止在长期运行过程中敏感器过热。它还有一个内置的净化资产,以减少可燃气体的积聚,一个用于低压CVD的真空充气和绝缘屏蔽,以确保热能在晶圆表面的均匀分布。总体而言,APPLIED MATERIALS 0010-36408热CVD反应器是在半导体应用中用于各种材料沉积的先进模型。它提供了高度可重复的结果,同时易于使用和维护。它具有多种气源和直观的界面,非常适合先进的薄膜沉积工艺。
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