二手 BALZERS LLS EVO #9015975 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

BALZERS LLS EVO
已售出
製造商
BALZERS
模型
LLS EVO
ID: 9015975
Sputtering system Substrate: 4" (36 pcs) 6", (12 pcs) holder HV pump: CTI 8F OnBoard (LC / MC) Rough pump: TRIVAC D 65B (LC / MC) Polycold type: PFC 400 LT HV valve: VAT 014 2-POINT (LC), VAT 064 3-POINT (MC) Vent valve: VAP 025 / VAP040, Soft vent MFC 5 slm [N2] Heater: Heater shutter (LC) Etching in LC: RF sputter etch Electrical: 3 x 400 VAC, 60 Hz Power supplies: # 1, 2: DC 6 kW # 3: RF 2.5 kW Cathodes: Power supply #1: 1, 3 Power supply #2: 4, 5 Power supply #3: etch, 2 Target material: Ta: 1 SiO2: 2 Ta: 3 AlCu: 4 NiCr: 5 Manual handling Accessories: Second set of shields Second set of substrate tooling.
BALZERS LLS EVO是为先进薄膜应用研究而设计的溅射设备。该系统提供了诸如薄膜的沉积、蚀刻和图桉化等创新的工艺解决方桉。适用于多种材料和应用,包括半导体、金属和绝缘体。LLS EVO是一种多功能机器,具有高级软件,为用户提供广泛的溅射和蚀刻过程。它易于操作和定制,以满足各种溅射过程。该单元具有较大的腔室能力,可让用户在大面积上实现极为均匀的薄膜。BALZERS LLS EVO溅射机的原理是利用气相工艺,以提供更好的表面积和更低的温度处理。这一过程是通过向腔室中引入惰性气体,例如氙、k、氮、氙来实现的。这些气体在腔内加速至约700 m/s,并与溅射目标碰撞。这导致靶标带电,惰性气体被电离,产生电等离子体,由此引发溅射,薄膜沉积在基板上。LLS EVO溅射工具能提供极高品质和高均匀性的薄膜。它还允许以不同的速率沉积薄膜,这取决于目标材料和所涂覆的类型。资产的设计使得沉积率可以变化,以满足特定应用的需求。BALZERS LLS EVO还为用户提供了高精度制作薄膜的能力。例如,原子层沉积(ALD)工艺允许高沉积速率和极均匀的薄膜,具有优良的薄膜质量。此外,与模型相关的光学和隧道显微镜可以对表面和界面结构进行精确的监测。综上所述,LLS EVO溅射设备是薄膜研发的有力工具。它旨在为用户提供多种用途广泛的溅射和蚀刻工艺,并确保均匀和高质量的薄膜。该系统还具有先进的软件,允许用户以高精度制造薄膜。
还没有评论