二手 CANON / ANELVA EVP-0141A #9097673 待售

CANON/ANELVA EVP-0141A是一种先进的溅射设备，设计用于将薄膜材料沉积到目标基板上。通用系统是医疗、工业、光电、半导体等多种应用的理想选择。它是一个全自动单元，由集成的射频驱动等离子体源、真空室和高精度定位器组成。该机具有不对称磁控管溅射头，利用先进的磁场进行内外电离。这使得厚度范围从10到15,000埃的薄膜具有较高的沉积速率。该工具还能够通过在溅射过程中使用不同气体来控制沉积层的表面成分。集成的RF驱动等离子体源允许多层涂层具有非凡的均匀性。这消除了针孔和其他表面缺陷的产生。该源进一步与精确的温度控制相结合，以实现均匀和可重复的沉积过程。高压源还能够产生高达20 μ米的绝缘隔离膜。佳能EVP-0141A溅射资产配备了高精度过滤模型。这确保了沉积过程中室内没有颗粒物。过滤设备是自动化和自我监测的，确保沉积过程有效运行。ANELVA EVP-0141A系统提供精确的定位和创新的运动控制.这确保了目标基板在均匀和可预测的沉积过程中的准确定位。多轴表提供任何方向基板位置的平滑运动和调整。EVP-0141A单元是任何溅射应用的绝佳选择。它的多功能性和先进的特性使得它成为任何需要精确薄膜沉积的应用的理想选择。多轴定位和先进的过滤机保证了涂层质量的一致和可靠的效果。对于希望扩展其溅射能力的任何组织来说，该工具都是一项低成本投资。