二手 CANON ANELVA ILC-1013MK2 #9134660 待售

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CANON ANELVA ILC-1013MK2
已售出
ID: 9134660
Sputtering system AR HE N2 DA 1993 vintage.
CANON ANELVA ILC-1013MK2是一种用于制造大型电子元件的溅射设备。它利用磁性将材料粒子转移到基板上,以产生所需的元件。该系统由一个腔室、一个基板支架和一个阳极组成。腔室由不锈钢製成,并填充了一种低压的稀有气体,如Argon。腔室设有真空密封,为高效溅射创造低压环境。基板架设计用于固定基板,并提供溅射平台。它具有可调的入射角,允许从不同方向精确溅射。阳极由Molybdenum等特殊材料制成,结合磁场和低压电场,将材料颗粒从腔室转移到基板上。ILC-1013MK2的沉积面积为100毫米x 200毫米,适合制造大型部件。它还具有11 nm/min的最大沉积速率,可以达到500 °C的高温,这使得它非常适合制造电子和机械部件。该单元还可用于使用低能束降低沉积速率的离子束辅助沉积(IBAD)。这种特性在保持薄膜均匀性的同时增加了沉积速率。此外,佳能ANELVA ILC-1013MK2有一个最先进的控制机器,允许在溅射参数的高度精度。它还具有用户友好的界面和实时显示,使用户能够快速轻松地监控和控制溅射过程。该装置具有许多有用的功能,包括有助于保护用户免受辐射的伽马射线敏感安全工具,以及有助于保持溅射资产处于最佳状态的自动清洁功能。总体而言,ILC-1013MK2是一个可靠且高度精确的溅射模型,具有多种功能,非常适合大型部件的工业生产。其精密的控制设备可确保高精度,而用户友好的界面使其易于使用和监控。该系统的设计也考虑到了安全性,其自动清洗功能确保了设备保持在最佳工作状态。
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