二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9151423 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一种等离子体溅射沉积设备，设计用于研究和工业应用。它利用磁控管溅射技术，即电流通过等离子体轰击目标的过程，释放沉积在底物上的离子。该系统设计用于薄膜沉积的最大精度和均匀性，能够处理多种材料，包括金属、电介质和陶瓷。CANON ILC 1051具有精确的四轴设计,可有效控制基板到目标角度。它还包括对基板进行均匀热管理的先进温度控制，以及一个低压溅射室，以将溅射原子降至最低。ANELVA ILC-1051可以配置多达四个DC或RF溅射源，使其能够以更大的均匀性溅射更大的区域。整个单元通过图形用户界面控制，允许用户快速设置和监控机器。ILC 1051提供了多种功能来帮助用户产生高质量的溅射效果。该工具包括自动压力和温度控制，以及监测氧气和其他反应性气体的系统。此外，该资产还具有大功率抽水模型，在沉积室中保持清洁和低压环境。有数据记录设备监控所有参数，系统可以执行蚀刻、涂层等其他任务。总体而言，ANELVA ILC 1051是需要薄膜精确溅射沉积的研究和工业应用的理想选择。其先进的特性，如温度控制、低压室、人性化界面，使其成为在多种材料上溅射高品质薄膜的绝佳选择。它的四轴设计允许有效地控制基板到目标角度，并在沉积过程中提供均匀性。CANON/ANELVA ILC-1051可以处理广泛的材料，其精确的设计和先进的特性保证了可靠和高质量的薄膜沉积。