二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9272190 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一种溅射设备，设计用于将薄膜沉积到基板上。在溅射中，目标被放置在真空室内，并被离子轰击，导致目标表面的原子被释放并沉积到基板上。CANON ILC 1051利用磁控管感应耦合等离子体（MICP）源在其腔室内产生一个氙气或稀有气体氦气等离子体。等离子体源产生的磁场增加了离子束的方向密度，从而提高了膜沉积的覆盖率和均匀性。ANELVA ILC-1051提供各种功能来帮助优化沉积。它有一个真空观察窗口，可用于诊断目的，可用于确保适当的基板定位和掩蔽。系统的基压约为1x10-4 Pa，沉积可达1x10-3 Pa，基板偏置电压高达-2,500V。温度可以从室温控制到300摄氏度。该机具有内置联锁装置，以确保安全和监控移动溅射枪和基板的机器中的电机的能力。该工具配有阴极馈热喉，允许气体和/或剂量控制。RF发生器选项可提供更高的离子密度,并能够以更高的沉积速率运行。高容量涡轮泵和maxigauge压力表为维持和监测真空室提供了必要的备用。此外，窗口可用于安装原位光学测量设备，以便在沉积过程中监测薄膜生长。用CANON/ANELVA沉积的溅射膜ILC-1051具有良好的覆盖面、均匀的表面和优异的表面粗糙度。薄膜具有良好的附着力和平整度.该资产具有很高的可靠性和可重复性，可用于沉积多层薄膜和各种应用，包括电子、MEMS和光电子。该模型还提供了许多软件选项,可远程访问设备和其他有用的功能。