二手 CPA V2000 #184850 待售

CPA V2000是一种物理气相沉积（PVD）设备，设计用于覆盖各种材料的薄膜层。用于微电子、航天、医疗和汽车等多个行业。该系统结合阴极电弧蒸发和溅射沉积过程，在精确温度下将金属涂层沉积到工件上。该单元可配置为在可编程控制下延迟多达8种目标材料的序列。该机易于控制沉积速率、厚度、纯度和均匀性，适用于广泛的应用。阴极电弧蒸发过程通过从真空环境中蒸发的材料中产生等离子体来产生蒸气。然后将这种汽化材料沉积在被涂覆的基板表面。另一方面，溅射沉积是一种用低能离子对材料进行电离和轰击的过程，从而导致固体或液体形式的材料快速扩散到基材上。这种工艺在提供均匀涂料方面特别有用。V2000工具采用耐磨涂层方法，以确保耐用性和产品寿命长。平均2至3纳米的薄膜沉积可以在低温下实现。此资产可在低至170 °C的温度下涂覆材料。该型号还具有极低的入射功率水平,从而能够生产出即使是最严格的环境要求和法规也能满足要求的高质量涂层。此外，CPA V2000还具有自动疏散室功能，便于维护。这样可以快速高效地用于维修和维护,这意味着设备的停机时间最短。总体而言,V2000系统是一个可靠的PVD单元,具有出色的涂层控制功能,使其成为适合高端应用的工具。其阴极电弧蒸发和溅射的结合使其具有很高的准确性和柔韧性。凭借其易于维护、入射功率水平和温度范围低的特点，这台机器已经成为航天工业的领先者。