二手 CVC 601 #9046395 待售

CVC 601是一种用于将各种薄膜材料沉积到基板上的溅射设备。它具有独特的结构，沉积目标和样品基板安装在不同的转盘上，每个转盘可调整成多种角度。这使得薄膜可以在弯曲或弯曲的表面上均匀沉积，使其成为许多真空沉积应用的一个有吸引力的选择。该系统由一个工艺室、高真空旋转泵和旋转接头组成，提供从腔室到溅射源的真空紧密连接。目标材料以磁性方式安装在目标支架上，可根据不同角度进行调节，使目标可以旋转，以使薄膜均匀沉积。然后将样品基板安装到与样品转盘相连的基板支架上。可调转盘允许样品旋转，即使在曲面上也能均匀均匀地沉积薄膜。在操作中，设备将向下泵送工艺室，直到达到预定的真空水平。然后将溅射源供电并溅射到基板上,从而创建所需的薄膜。可以调整目标角和转盘速度，以控制沉积膜的厚度和均匀性。601还具有广泛的控制和监控装置。其中包括一个样品压力监测仪来监测工艺室压力，以及一个排放监测仪来监测溅射过程中的碳污染程度。其他功能包括过电流保护、泵压力和薄膜厚度的数字读数、可编程计时器和手动覆盖控制。CVC 601机器被设计用于许多薄膜沉积应用，如光学滤波器、半导体器件、介电涂层、金刚石状碳涂层的生产。其独特的设计使其能够提供薄膜材料的均匀、受控沉积，而无需复杂的后处理。在具有成本效益的设计中提供可靠的结果和效率，是薄膜沉积行业的一个有吸引力的选择。