二手 CVC 611 #9160360 待售

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製造商
CVC
模型
611
ID: 9160360
Sputtering systems BROOKS VT-5 Robot (2) RF Targets, 8" (2) MKS MFCs CTI CT-8F Cryogenic pump Techware computer MKS Baratron All rough / Vent valves Computer controller Rotational table Robot wafer loading Wafer cassette in vacuum load lock.
CVC 611是一种多目标反应性溅射设备,旨在以最大的速度和效率在大面积上沉积薄膜。利用磁控管溅射技术和计算机控制的基板支架,创造出高品质的薄膜性能。611溅射系统由几个部件组成,包括目标轮、变频器、磁控管、基板支架、工艺室、基板间隔板、水冷板和控制器。目标轮包含六个目标,每个目标都有自己的变频器,能够实现多个溅射配置。变频器允许在溅射过程中微调功率。磁控管设计用来产生高密度的等离子体,为基板提供均匀的涂层。基板支架内置了温度和气体压力控制传感器。该工艺室配有用于溅射控制的耐火材料和用于等离子体控制的电离气体。它还有一个带真空泵的疏散单元,以提高溅射速率。基板间隔板提供了一个均匀的基板间距和定位室内。冷却面板使用水冷却溅射的基板并维持腔室温度。CVC 611上的控制器允许精确的电源应用和目标定时。611溅射机用途广泛,可在大面积上沉积多种薄膜。它提供出色的覆盖范围、精度、速度和效率。它常用于先进的光刻、半导体器件制造、数据存储和生物科学等行业。CVC 611是一种可靠而坚固的工具,可提供一致且持久的性能。
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