二手 HITACHI E-1030 #9151980 待售

HITACHI E-1030溅射设备是一种高性能、多功能的薄膜沉积系统。它利用现有的最佳溅射沉积技术，为研究和生产提供成本效益高的沉积解决方桉。该装置具有较高的角度沉积均匀性、极好的控制和可重复性、较低的操作成本以及优越的沉积速率控制，非常适合广泛的沉积应用。E-1030使用三元交叉式机器，由两个旋转目标和一个电子束枪组成。该工具由850W直流磁控管供电，采用75毫米端部大厅磁铁。磁铁结构被设计成保持高密度等离子体在靠近目标表面，这提供了均匀溅射在广阔的空间区域。控制资产提供对过程参数的精确控制，如压力、气流和等离子体功率。HITACHI E-1030的真空室由不锈钢製成，具有高性能的离子计，以维持10-7 torr的底压。该模型还具有顶部加载夹具和样品掩模,可自动执行沉积过程并节省宝贵的时间。样品掩模功能允许精确控制沉积厚度、形状和尺寸。E-1030还配备了WIG加热源和自下而上的冷却器，使设备能够在高达500 °C的温度下沉积材料。这使得该系统非常适合软膜和硬膜的沉积。该装置还能够以高达50微米的厚度沉积电介质和金属薄膜，而不会使薄膜明显退化。HITACHI E-1030在一个紧凑的封装中提供精确、可靠性和灵活性。它是一种多用途的沉积机，适用于广泛的应用，包括半导体、光学、传感器、MEMS和能源相关领域。它是一个方便用户使用的工具，易于设置和操作，使其成为研究和生产环境的绝佳选择。