二手 HITACHI IML4-1 #9128628 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

HITACHI IML4-1
已售出
製造商
HITACHI
模型
IML4-1
ID: 9128628
晶圆大小: 4"
优质的: 2000
Ion milling system, 4" 2000 vintage.
HITACHI IML4-1是最先进的溅射设备。这种真空涂层系统采用集成在外腔室的三级涡轮分子泵送装置,在广泛的工作压力范围内提供一致的性能。这台机器能够在非常低的压力和低温下进行精确的薄膜沉积。IML4-1包括蒸发沉积工具。这项技术利用强大的磁控管源局部加热样品,产生等离子体以蒸发可用于制造薄膜的原子。此资产能够旋转以优化胶片覆盖范围。HITACHI IML4-1具有精确控制样品整个表面的蒸发速率和原子沉积速率的能力,确保均匀性。此外,IML4-1还提供了300毫米圆形溅射目标的使用。这种溅射靶可用于沉积各种金属的薄膜,如铝、铬、钛等材料,沉积速率和均匀性都很高。HITACHI IML4-1还包含一个高能远程等离子体源,它可以用来在短时间内溅射样品的广域。此外,该模型还配备了自磁源,可精确控制沉积剖面和薄膜参数,从而实现长期稳定。最后,IML4-1还配备了负载锁设备,便于样品装卸。为了提高用户安全,HITACHI IML4-1由等离子体监测器以及数字泄漏探测器和热电偶温度计控制和监测。总之,IML4-1是一种超高性能溅射系统,能够提供高速、均匀的精密薄膜沉积。这个最先进的单元易于操作和维护,非常适合广泛的应用,从研发到小型生产运行。
还没有评论