二手 METRON Eclipse #9077820 待售

METRON Eclipse是一种溅射设备，设计用于提供具有特殊控制和均匀性的高沉积速率。该系统是一种高效的PVD层溅射机，利用单个主腔室和单个旋转平台，使用户能够同时溅射多个晶片。该单元具有独特的模块化设计,可方便地为各种应用程序定制和配置它。Eclipse能够在相对较低的压力下提供高沉积速率，而不牺牲质量或均匀性。METRON Eclipse是基于阴极电弧PVD的设计，加上旋转机使层沉积可以在多个晶片上同时进行。该工具配备了自动加载/卸载资产，使用户能够快速、轻松地将晶片从一个位置移动到另一个位置。Eclipse使用直流电和可变电源溅射各种组成、大小和形状的材料。METRON Eclipse非常适合铜、钛、镍、钴和铝层，因为这些材料对溅射的阻力最大。该模型采用高效、均匀的沉积技术，保证了晶圆整个表面积的均匀覆盖。Eclipse支持广泛的沉积技术，如离子束、旋转和射频等离子体。集成室加热/冷却设备可确保正确保持溅射温度,并可引入溅射气体。该系统配备了可调节温度范围在0-50°C的集成冷却单元，让用户将冷却液温度保持在理想水平。腔室的压力可以从0.1毫巴调整到6毫巴，用户有能力轻松控制电流、电压、气压和流量。METRON Eclipse有一个易于使用的图形用户界面，用于设置和监视溅射过程。该机具有高的沉积速率兼容性，1：1的纵横比溅射速率为250 nm/min，2：1的纵横比为155 nm/min。4：1宽高比的存款率为105 nm/min，5：1宽高比则为48 nm/min。Eclipse为用户提供了等离子体稳定性和均匀性方面的最高控制，为连续溅射过程提供了严格的控制范围和均匀性。此外，该工具的设计比直流溅射技术产生更好的效果，产生更高的膜密度和更好的附着力。总体而言，METRON Eclipse是制造具有卓越均匀性和沉积特性的层的理想溅射资产。它是一种高效、安全、可靠的机器，易于设置和操作，非常适合各种溅射应用。该模型具有较高的沉积速率和均匀性，适用于小型生产和研究实验室的应用。