二手 MRC 603 II #9011265 待售

MRC 603 II是Applied Materials的先进溅射设备。它利用模块化设计提供灵活性和可扩展性,以确保客户能够调整系统以满足其特定需求和需求。该装置包括一个单一的源，即可提供多达18个目标的直流溅射源，用于在平面和弯曲基板上沉积，以及一个能在同一工件上提供多达3个目标沉积的氙气短脉冲源。MRC 603-II具有较高的吞吐量能力,使其能够处理大面积的基板以及处理诸如光学滤波器之类的精细基板。这台机器提供了出色的端点检测功能以及流程可重复性,使其能够提供一致和高质量的结果,而不管流程的复杂性如何。603 II还包括先进的自动化过程控制工具，能够控制单个目标、顺序目标、多目标和均匀的溅射层。这样可以确保即使在复杂的过程中也能保持工艺条件和基板的均匀性。此外,它还具有负载锁定功能,可轻松、安全地传输基板,以及可选的清洁室兼容滚动和模块化系统,适用于大型应用程序。该资产还与数字注射器控制系统高度兼容，允许超细覆盖控制。综合测量模型可以监测沉积速率和端点检测。此外,设备还具有实时配方控制功能,以确保流程保持一致和可重复。对于需要高吞吐量、重复性和统一性的工具,603-II是一个绝佳的选择。它专为需要高质量薄膜的高端应用而设计，适用于各种溅射应用，如平板显示器、半导体、MEMS、光学、数据存储等。