二手 MRC 603 III #9102670 待售

MRC 603 III是为薄膜沉积而设计的多功能溅射设备。该系统利用磁控管阴极技术，在各种附着力优良的基板上生产高均匀涂层。该设备的设计可提供高性能,提供出色的可重复性和易操作性。MRC 603-III机能够沉积多种薄膜，从单层到复杂的多层堆栈，无需基板专用设备。这种多功能性使得它能够被广泛的行业使用，从汽车制造到精密光学和微电子制造。603 III工具装有13.56MHz、2kW磁控管，用于等离子体增强溅射。这种强大的磁控管即使是最苛刻的薄膜沉积要求也能轻松处理。资产还包括一个特殊的高性能网格，对溅射过程提供额外的控制。603-III还具有其他一些有助于确保薄膜沉积最高标准的功能,包括可编程控制模块、自动重复循环过程、内置氦气泄漏检查模型和安全热开关。此外，设备还设有专门的腔室，旨在确保各种基板和应用的高度均匀性和质量。最后，MRC 603 III有多种选项，使系统更容易根据个人需求定制。其中包括各种样品安装夹具、目标材料夹具以及具有不同尺寸和配置的腔室。所有这些特性使得MRC 603-III一个理想的薄膜沉积单元的各种应用。高性能和多功能性使其成为任何精密涂层项目的理想选择。