二手 MRC 603 #9206603 待售

MRC 603
製造商
MRC
模型
603
ID: 9206603
Sputtering systems.
MRC 603是由Materials Research Corporation制造和销售的高性能溅射设备。该系统专为需要超光滑、高沉积速率、保形入层沉积的应用而设计。该单元由几个组件组成,包括一个预清洁室、一个高真空沉积室、一个高压气体隔片、一个电源和一个真空控制模块。该机的预清洗室配备了先进的低压、高强度微波和EUV光源。该腔室用于在溅射沉积之前预先清洁基板表面。这有助于优化表面清洁度和沉积膜的附着力。在高真空沉积室中进行沉积,该室用高真空隔片密封。原位压力可调0.1 mtor至20 torr,工艺气体可调1至99%,允许薄膜在很宽的压力范围内沉积。电源提供了范围广泛的射频功率水平和从10 kHz到5 MHz的稳定频率。基材在溅射过程中旋转,以确保膜沉积均匀。一个范围的沉积气体,如氙气、氧气和氮气可以被用来达到所需的金属化效果。采用不同比例的碱性和稀有气体可以产生广泛的沉积速率。真空控制模块允许在整个沉积过程中保持稳定的底压。603是优质薄膜沉积的理想溅射工具。该资产可以容纳从KOH晶体和石英玻璃到厚晶圆和电路板的各种基材。该模型也适用于多种高性能薄膜技术,包括物理气相沉积、化学气相沉积、溅射、磁控管溅射。最后,该设备可靠性高,使用方便,是科学界人士的理想选择。
还没有评论