二手 MRC 603 #9232339 待售

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製造商
MRC
模型
603
ID: 9232339
Sputtering system (3) Target units With RF etch Chamber an analog DC bias supply CTI Cryo compressor Wet mechanical pump.
MRC 603是一种磁控管溅射设备,设计用于薄膜的可重复沉积。它是一个通用的系统,是一个很好的工具,可用于各种应用,包括表面分析、薄膜涂层和一系列基板的保护涂层,包括金属、塑料和陶瓷。此单元提供独特的特性和优势组合,使用户能够获得最高质量的表面涂层。603溅射机包括多种部件和工艺,包括:大功率磁控管溅射头;短期记忆溅射气体调节器;可选的高性能真空室;石英背盾;以及一个集成的计算机控制中心。这些组件可实现最大的溅射效率和可重复的性能。此外,该工具还具有气动快门,可有效处理多种基板,以及用于防止操作员失误的调试/安全控制资产。MRC 603磁控管溅射头可实现最大的沉积速率和一致的溅射性能.它包括一个高功率的冷阴极磁控管,具有独特的石英屏蔽阴极,以消除任何溅射碎片损坏的风险。这种高性能的溅射头包括一个可调溅射气体调节器,最多有四个独立的用户可选择的压力设置,以满足不同的工艺要求。溅射头安装在一系列运动控制轴上,从而能够对溅射角度和位置进行精细控制。603溅射模型还具有用户友好的计算机控制界面,允许操作员设置和控制真空压力、溅射速率、腔室温度、沉积时间等几个参数。计算机控件还存储所有使用材料的数据,包括生产日期和溅射速率,因此溅射参数可以轻松准确地复制。MRC 603设备能够创造最优质的表面和涂层,具有可重复、可靠的性能。它适用于从医疗、汽车到航空航天等多个行业,使用户能够快速、经济高效地实现自己期望的成果。该系统非常适合实验室、研究设施和其他需要为不同目的对基板进行可靠薄膜涂层的环境。
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