二手 MRC 643 #9035812 待售

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MRC 643
已售出
製造商
MRC
模型
643
ID: 9035812
Sputtering system (2) cryo pumps, (2) 13"x13" cathodes targets and (1) blank target (1) Alumnium cathode, (1) Titanium, (1) blank RF Power Supply and DC Generator 208 V, 100 A, 50 Hz, 3 Ph Chamber still under vacuum MRC 8080 Microprocessor controller Pumps down to 10^-7 Torr.
MRC 643是一种最先进的溅射设备,配备了几种先进的功能,可用于一系列应用。该系统采用磁控管溅射技术,可以在半导电和非导电基板上沉积涂层。该单元由两个腔室组成,允许同时溅射两个不同的目标。腔室尺寸是可调的,使得各种尺寸的材料可以沉积。643包括悬浮控制机以提供沉积的均匀性,并已被证明在细腻的表面上实现了前所未有的薄膜涂层。该工具配备了射频电源,提供了广泛的功率输出和用于溅射各种目标的优化电源。这种射频电源允许增加沉积速率、提高均匀性和提高效率。此外,该资产还可以选择三种不同的工艺气体来实现不同类型的沉积,如聚氯乙烯、聚氯乙烯和磁控管溅射。MRC 643还具有每个工艺的多个基板,从而提高了吞吐量。这使得该模型非常适合大规模生产。在精密应用方面,643提供了TIR(总内反射)X射线衍射能力,便于确定薄膜厚度。最后,该设备包括用于沉积过程远程监控、运动控制和精密机器人端效应器的软件和硬件。这样可以提高自动化程度,并有助于降低与手动设置和操作相关的成本。总之,MRC 643是一个先进的溅射系统,提供了无与伦比的精度和性能水平。它具有高度可定制性,非常适合各种应用程序,使其成为任何寻求可靠且经济高效的溅射技术的公司的理想选择。
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