二手 MRC 662 #9248278 待售

MRC 662是为薄膜涂层的高速率离子束沉积（HRID）而设计的溅射系统。它使用场发射（FE）枪源产生带正电荷的离子，通过反应室传播，并以薄膜的形式覆盖目标表面。662能够以每秒3-4埃的速率沉积材料，可用于原位和异位沉积过程。MRC 662具有可配置的沉积室,具有多种参数,包括可定制的压力和温度控制。它可以调整以提供多种过程，如物理气相沉积（PVD）、磁控管溅射或目标的反应性溅射。反应性溅射工艺常用于磁性存储介质的生产，产生具有良好耐腐蚀性和高水平抗氧化性的涂层。662还提供了若干数据收集和分析选项。它可以配备一个样品支架，可以用于原位和异地分析，允许表征底物/目标溅射薄膜涂层。也可用于测量基板和沉积膜的电磁性质。MRC 662是一种先进的溅射系统，能够以受控和递归的方式沉积各种材料和厚度的薄膜。它采用了比其他溅射系统具有更大离子发射稳定性的FE枪。662由三菱电机公司制造，在电子工业中广泛用于薄膜沉积在基板上。