二手 MRC 902 #9171689 待售

MRC 902是为薄膜沉积而设计的先进溅射设备。它利用直流电（DC）或射频（RF）电源产生一个稀薄的含有高能离子的等离子体，然后撞击基板和目标材料表面，引起溅射。902溅射系统由真空室、目标支架、基板支架和电源组成。真空室是单元的主室，是发生溅射过程的地方。它必须是密封的，必须能够达到和保持真空。目标持有者持有溅射目标材料，这可以是不同的组成取决于所需的薄膜材料。基板支架用于固定薄膜将被沉积在其上的基板。电源是用来产生等离子体的动力源；它可以是直流或射频。机器有一个额外的原位氧气压力控制器，可用于在溅射过程中调节氧气压力，以获得更好的薄膜质量。为确保均匀的薄膜沉积，将目标安装在可旋转的护罩上，该护罩为基板提供均匀的覆盖。为了启动溅射过程，真空室必须撤离。使用两种泵：一种是达到低压的粗加工泵,另一种是进一步降低压力的扩散泵。一旦压力足够低，电源就用来在腔内产生等离子体。等离子体中的高能离子随后会撞击到底物和靶上，引起溅射。溅射材料升华，然后在基板上凝结，形成薄膜。该过程可以进行机械调整,并且易于用户使用。该工具配备了自动控制资产，可以让用户轻松调整溅射的参数，例如电压和电流。它还有一个数据记录模型，可用于实时监视进程并记录任何更改。MRC 902溅射设备为薄膜沉积提供了绝佳的平台。适用于广泛的应用，如生产导电、光学、保护性薄膜。具有高能效,生产均匀、均匀、性能优良的薄膜涂层.