二手 MRC 903 series #9009095 待售

MRC 903系列是利用溅射沉积技术的高精度真空工艺设备。它旨在为各种基板上的薄膜提供先进的均匀覆盖。MRC 903利用磁控溅射法（Magnetron Sputtering Process, MSP），这是一种高效、低压碳基沉积工艺。这一过程能够在各种基材上产生高度均匀的薄膜覆盖。该系统配备了低压室、最多三个阴极、负载锁室、高级工艺控制和NIST可追溯厚度测量等一组鲁棒特性。该单元通过使用涡轮泵浦扩散类型将腔室排空来创建真空环境。这种真空允许有效和均匀的溅射过程。腔室最多支撑三个阴极，用于将目标材料溅射到基板上。阴极通过调整施加的电流和/或交叉磁体布置的位置进行调谐，以优化涂层均匀性。这台机器还配备了先进的工艺控制工具，可以优化工艺参数。资产还允许使用两步载荷锁定室。载荷锁室用于将基板引入腔室而不暴露于环境中。当放置在锁室内部时，基板由真空维持，以尽量减少周围环境气体的暴露。这有助于确保基材的纯度并产生更可靠的结果。一旦需要所需的薄膜,就会使用NIST可追踪厚度测量模型来测量它们的精度。该设备准确地确定了所沉积薄膜的确切厚度。903系列可以实现复杂几何形状溅射材料的均匀分布，是精密薄膜涂层的理想选择。总体而言，MRC 903系列是一个强大的溅射系统，能够提供高精度的均匀薄膜涂层在各种基板。利用磁控管溅射过程，允许低压、高效、一致的过程。此外，先进的工艺控制、NIST可追踪厚度测量和两步载荷锁室提供了薄膜的精密沉积。