二手 MRC 903M #126500 待售

MRC 903M是一种溅射设备，用于将材料薄膜沉积到基板上。它是一种利用磁增强反应溅射技术沉积薄膜的真空涂层系统。这一单元能够提供高速率、均匀的薄膜和工艺控制选项，从而实现极高质量的涂层。与其他沉积技术不同，MRC 903 M溅射机利用一系列磁场来增强溅射气体的能量，允许广泛的材料快速沉积。903M使用一个真空室，它包含一个基板表和一组盘片，用来容纳用于溅射过程的目标材料。这些盘片连接到具有可变设置的电源,从而可以精确控制薄膜的沉积速率和厚度。在腔室内部，基板台被一组磁控管溅射枪包围，使气体与目标发生反应。随着溅射气体注入真空室，电子被磁场加速产生高能离子束或粒子束轰击目标表面，将材料沉积到基板上。903 M溅射工具被证明是薄膜研发的宝贵工具，使得一系列材料和基板表面得以涂覆。MRC 903M的应用范围包括多种耐温耐磨材料，包括贵金属和陶瓷薄膜。该资产还被用于存放微电子工业中使用的绝缘膜。MRC 903 M系统是模块化的,可以根据一系列要求进行定制,从而确保质量和经济高效的生产。配备903M的标准版车型能够提供均匀的均匀性和可重复性，让高质量的薄膜沉积。903 M的灵活性使得在沉积过程中可以调整和微调广泛的参数，包括光束能量或电压、电流、目标数、沉积速率、沉积时间和目标材料。该设备确保了薄膜沉积的可重复性和准确性，提供了非常高质量的涂层。总体而言，MRC 903M溅射系统是薄膜沉积的一个非常宝贵的工具，能够高精度地沉积各种材料。该单元对溅射气体的磁性增强，使得广泛的材料能够快速沉积，其提供具有出色均匀性和可重复性的优质薄膜的能力，使其成为薄膜研发的理想选择。