二手 MRC Eclipse #9225158 待售

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製造商
MRC
模型
Eclipse
ID: 9225158
晶圆大小: 8"
优质的: 2009
Sputtering system, 8" Chamber 1: Process: ALSI Chamber 2: Process: TI Chamber 3: Process: AL Sputter chamber 1 / 2 / 3: Type, 8" DC Power: AE Cryo pump: CTI 8F RF Chamber: Process: Hard etch RF Power: AE Cryo pump: CTI 8F Main frame: Robot type, 8" Alignment Load lock cryopump: CTI Onboard 8 Compressor: Type 1: (2) 9600 Type 2: SUZUKI EBARA A10S Dry pump System monitor: Front panel Remote control 2009 vintage.
MRC Eclipse是MRC为精密薄膜沉积而设计制造的先进溅射设备。多目标溅射系统是材料研究、工艺开发、批量生产、质量控制应用的高生产率工具。该装置采用高性能溅射技术,在各种尺寸和组成的基板上沉积均匀的薄膜。Eclipse的设计和构建具有各种创新功能,使其能够快速准确地沉积具有接近原子层精度的薄膜。MRC Eclipse配备了一套通用组件,允许用户根据自己的特定需求配置机器。该工具利用具有2、3或4个目标功能的high-T5直流磁控管溅射源、用于控制工作环境的离子源以及用于真空管理的可选泵送资产。Eclipse还具有先进的控制器,允许用户实时控制和监控溅射过程,从而实现对溅射参数如沉积速率、气流和基板温度的精确控制。MRC Eclipse设计用于多种应用,包括太阳能电池的薄膜沉积、显示器、电子显微镜等等。该车型的先进特点和多重目标能力使其适合材料研究、工艺开发、批量生产和质量控制。Eclipse还被设计为与多种基板和目标材料兼容,使其成为许多不同薄膜沉积项目的理想选择。MRC Eclipse是一种可靠的溅射设备,设计用于精确一致的薄膜沉积。它是各种应用的理想选择,为用户提供高性能的溅射功能和精确的薄膜沉积。该系统设计方便快捷的安装和操作,先进的控制器确保精确一致的溅射操作。Eclipse是寻求可靠高效溅射装置的研究人员和制造商的绝佳选择。
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