二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II #193359 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON EcLIPse Mark II溅射设备使用惰性气体在超高真空环境中从固体基板上去除材料。该系统设计用于在多种基板上形成薄膜，包括半导体晶圆和薄膜、微电子器件、热电器件和太阳能电池。MRC Eclipse Mark II单元利用双磁控溅射源，由两个分别安装在梯形腔室中的阴极组成。腔室在背景压力约10−7 torr的真空环境中运行。两个磁控管均由偏置模块供电，可提供高达1kV的直流电流和高达4.0A的直流电流。目标材料通常用Ar+或N2+离子轰击烧蚀。溅射（sputtering）是材料从基质中去除的过程，通过在等离子体开始时用植入的离子轰击材料来完成。可通过改变底物偏差来调节等离子体强度，从而控制离子在底物表面的分布。为了最大限度地减少离子对基板的损害，在基板的两侧放置了一系列磁体，导致基板方向的等离子体均匀分布。TEL Eclipse Mark II机还包括一个功能强大的控制软件，允许用户控制沉积温度、压力、射频功率、基板偏置和腔室时间等参数。它还有一个数据记录工具，允许用户保存他们的数据并远程访问它。资产还具有多种用于薄膜沉积的沉积材料，包括高纯度金属、氧化物、氮化物和绝缘体。这些材料被认为是"现成的"，可以很容易地替代同一目标腔内的其他材料。TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II模型非常适合材料研究、薄膜沉积、样品清洗和半导体器件制造。设备可靠性高，提供出色的用户界面，是研究的理想平台。