二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II #9093156 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II是一种革命性的溅射设备，用于将材料薄膜沉积到基板上。它利用大量专有技术来确保均匀性、统一性和可重复性。该系统旨在满足先进研究和生产作业的需要，允许将小于5nm的颗粒精确地沉积到晶片上。该单元基于一个三轴机器人平台，具有多个溅射源。这些源与目标对齐,目标可以是扁平晶圆或圆柱形样品。该机提供了高达2000nm厚度的单层和多层薄膜的快速、准确和可重复的溅射沉积。该工具具有允许用户通过MRC Eclipse Mark II软件创建多种沉积配方的独特优势。溅射源可以独立编程,从而使用户能够自定义目标"薄膜"层的空间沉积模式。此外，革命性的TEL Eclipse Mark II提供稳定的沉积速率，无论沉积的材料类型或目标基板的大小。此外，这一资产还可以精确控制薄膜成分和厚度。Eclipse Mark II还具有自动清洗周期，以清除沉积过程中留下的污染物和薄膜碎片。这是通过直流等离子体蚀刻技术完成的，该技术可以防止材料内的任何损失沉积。这个清洗过程可以简单的编程到TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II软件中，以方便且可重复的清洗程序。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II也加入了先进的温度控制模型。这允许整个设备的温度均匀，这在将薄膜沉积到基板上时至关重要。在沉积过程中，MRC Eclipse Mark II具有编程调节基板温度的能力，确保沉积过程中其热维稳定。总体而言，TEL Eclipse Mark II是一种革命性的溅射系统，它为将材料薄膜沉积到基板上提供了前所未有的精度和准确性。借助Eclipse Mark II等高级控制软件,用户可以快速轻松地为各种所需的应用程序配置沉积过程。此外，先进的温度控制和自动清洗能力确保了最高水平的准确性和可重复性。