二手 PERKIN ELMER 4400 #169590 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 169590
RF deposition/bias mode and etch On-board CTI cryo pump included PE Throttle valve HENRY 2KW RF Generator.
PERKIN ELMER 4400是一种溅射设备,利用高真空环境将金属或其他材料的薄膜沉积到基板上。这一过程是在通常由圆柱形腔室、接地基板支架和安装在电机驱动主轴上的目标组成的腔室中进行的。基板放置在支架上,目标放置在腔室的主轴上,然后将其排空至0.1-0.3 mTorr或更高的底压。然后,腔室又重新填充了一种气体,这种气体典型地是氙气,压力为4-10 mTorr。主轴由直流电源驱动,在腔内产生电场,目标被带电粒子如Ar+或ArXe+离子轰击。这些颗粒导致目标材料溅射,沉积在基板上形成薄膜。为确保达到均匀覆盖,目标通常在溅射过程中旋转。根据所需的沉积材料,可以使用不同的目标,并且可以通过改变提供给直流电源的电源来控制沉积速率。另外,可以使用不同的气体来修改所产生的薄膜。例如,Ar溅射时使用氧气会增加沉积膜对氧气的亲和力,从而增加膜对底物的附着力。4400溅射系统是为满足薄膜沉积的严格要求而设计的先进装置。它配备了先进的真空监控器,允许用户在沉积过程中监测和调节真空压力。它还配备了独特的自动开室程序,可以在不打破真空的情况下交换目标。这台机器有几个高级功能,如快速启动功能,减少了启动和运行工具所需的时间,以及快速停止功能,快速安全地关闭资产。综上所述,PERKIN ELMER 4400溅射模型是一种高度先进的设备,它为用户提供了一种快速受控的薄膜沉积方法,以创造广泛的应用。它非常适合创建纤薄的材料层,如太阳能电池应用或医疗应用。其独特的特点和用户友好的设计使其成为创造可靠、经济高效的薄膜沉积的理想系统。
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