二手 PERKIN ELMER 4400 #9210436 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 9210436
Sputtering system Includes: Delta backing plate Insulator Dark space shield & magnet Load locked system: (3) Target heads capable: Holding (3) delta DC magneron assemblies Gas system: MKS MFC With MKS 250 controller SST Gas line with VCR connections BARATRON With MKS-270 controller G.P. 303 Dual ion guage controller HENRY RF Generator 1 kW AE MDX-5 5000w DC Power supply Process chamber CT-8 Cryo & SC Compressor.
PERKIN ELMER 4400溅射设备是一种高性能仪器,用于将金属、复合和溷合化合物薄膜沉积在基板上。这种溅射系统是工业、科学和学术研究的有力工具。4400使用磁控管和离子束辅助磁控管溅射。磁控管溅射产生均匀的薄膜沉积,用于基础材料沉积应用。离子束辅助磁控管溅射技术允许更大的薄膜附着力,提供了一个优质的薄膜。此外,离子束辅助磁控管溅射技术非常适合沉积具有高长宽比的保形膜。该机组的电源能够提供精确电流控制的五目标溅射,具有极好的重复性。该机的4袋式锁载机提高了沉积效率和吞吐量。负载锁资产确保空气污染物的最小化,并允许稳定的底压。该软件包括一个高级用户界面,可轻松控制流程参数。一个高级数据记录模型在操作过程中记录用户集参数,还包括实时沉积速率控制。设备中还包括用于监测环境压力的压力监测仪。PERKIN ELMER 4400的腔室直径为830mm,腔室高度为368mm。该腔室设计为与多种材料提供高度的均匀性和兼容性。该系统采用独特的基座设计,减少了过程加热,改善了晶圆与腔室之间的通信。该装置还包括一个先进的抽水机,由两个阶段组成,这两个阶段的设计都是为了减少刀具过渡和减少过程污染。一级涡轮泵采用双级密封,保证了室内的高度清洁。第二级冷冻泵冻结任何残留的污染物,使它们变得惰性。4400溅射资产是工业级薄膜沉积的理想选择。它结合了技术和模型增强功能,确保了高质量、合规的薄膜具有卓越的附着力和出色的可重复性。这种设备为研究人员提供了一种探索和开发薄膜技术的可靠和高效的方法。
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