二手 PERKIN ELMER 4450 #9142022 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
4450
ID: 9142022
Sputtering system Process chamber: CTI Torr 8 Cryo pump CTI 8500 Compressor Controller mode: PLC With touch screen system Sputtering head (3) DELTA cathodes ADVANCED ENERGY MDX-10K DC Power supply GRANVILLE-PHILLIPS 275 Mini convectron vacuum gauge OMRON PLC Layout & I/O list Simplified sputter head design VAT Throttling gate valve & controller Cryo temp readout with 818 cryo temperature monitor Long view-port Power: 220 V, 60 Hz, 3 Phase.
PERKIN ELMER 4450溅射设备是一种先进的、独立的物理气相沉积(PVD)设备,经过设计,能够提供出色的和可重复的薄膜沉积能力。这一过程涉及用离子轰击固体目标材料,从而使可用于制造复杂结构的薄膜沉积物溅出。该系统提供多种溅射源,包括平面磁控管源、定向直流磁控管源和二极管源。与化学气相沉积等其他工艺结合时,4450可用于生产多种先进材料。增强的薄膜均匀性和可控表面性能是PERKIN ELMER 4450的关键特征。该单元以柔性多区工艺室为基础,泵送速度大于6升/秒。它设计为提供出色的腔室和基板温度控制,具有从室温到250摄氏度的精确温度控制分辨率。该机可用于各种金属、金属合金、氧化物等材料的沉积。它提供高吞吐量和高可重复性以及低拥有成本。该工具配备了一个可编程的基板偏置高达± 300V和高达± 190V直流电(DC)磁控管溅射源。它还提供了出色的高溅射速率和低离子损伤,因为使用了无污染、超高真空相容的过程气体,如氙气、氮气、氧气和二氧化碳。4450是PVD应用的理想资产,包括薄膜电介质、半导体膜、金属膜、金属氧化物和氮化物、PIN二极管和光学涂层。该模型提供了良好的工艺控制,使薄膜的可靠沉积具有精确的成分控制。对可再现薄膜沉积具有较高的沉积速率和精确的参数控制。此外,它的低拥有成本和紧凑的占地面积有助于最大限度地减少停机时间并最大限度地提高实验室空间效率。
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