二手 SPI 11430 #9200405 待售

SPI 11430溅射设备是一种功能强大且用途广泛的基于真空的涂层系统，适用于各种应用。该装置的建立是为了对薄膜和纳米膜在生产线基板上的沉积提供无与伦比的控制水平。它能够从金属、合金、聚合物和电介质中沉积薄膜，具有极高的精度和可重复性。11430是一种完全模块化、多腔室的设计，使其用户能够在一个步骤中对各种材料进行大面积、顺序的溅射。该单元包含最多四个磁控管，安装在一个位置可调的墓碑上，允许在多层应用中最大的灵活性。它与负载锁定技术兼容，周期短，吞吐量高。这台机器是高度可定制的。它配备了一系列工艺参数，包括温度控制、薄膜厚度监测、气体净化、溅射沉积速率、泵送速度和样品温度。这允许用户根据工作的具体需要不断调整胶片特性。此外,该工具还包括一个具有用户友好控制界面的精密主显示器,该界面旨在最大程度地减少设置时间并最大程度地延长停机时间。SPI 11430还配备了先进的沉积控制资产，提供了广泛的操作参数和配方。此模型针对各种材料进行了优化,从而实现了较高的工艺精度和可重复性。此外，11430还配备了自动清洗周期，以在多层沉积过程中保持质量。SPI 11430提供卓越的性能和可靠性,使用户能够快速轻松地处理各种应用程序。该设备的灵活性，加上广泛的操作参数，使其成为一种强大可靠的薄膜和纳米膜沉积工具。它是需要可重复和受控薄膜沉积的工业的理想工具。