二手 TECPORT Cantata #9124385 待售
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ID: 9124385
Ion Beam Sputtering (IBS) System
3-Grid RF Beam
Control interface
Vacuum chamber: Symphony 8; 800mm W x 800mm D x 700mm H
Frame assembly: Tecport with duct system
Rotation system: planetary, (4) 88mm diameter substrate holders
Substrate heater: Eurotherm, SCR halogen heater
Temperature controller: Eurotherm 2408 PID programmable
High vacuum pumping system: Helix CTI OB 320 cryopump with 9600 compressor
Low vacuum pumping system: Edwards
Vacuum gauge controller: Granville-Phillips 307
Vacuum gauge: Granville-Phillips: (2) convectron gauge, (1) tubular ion gauge
Optical monitor system: Intellevation IL 550 Series
RF ion source: KRI 14cm RF ICP gridded ion source package
Target assembly: Tecport, (3) 12" assemblies with automatic indexer
Ion source: KRI EH400HC with hollow cathode electron source
Rack system: Tecport
UPS: MGE Pulsar Extreme M22000RT-2U
Computer: Dell PowerEdge 2950
Touch screen: (2) 15" ELO Intellitouch
Keyboard and mouse
PLC: Allen-Bradley ControlLogix 1756
Kiosk stand: Tecport
(5) MFC: (2) RF ion source, (2) End-hall ion source, (1) HCES
Auto pressure controller: Apex
Shields: Tecport
Software package: Symphony OPUS
Load lock package: Tecport.
TECPORT Cantata是为工业应用而设计的最先进的溅射设备。它由强大的真空沉积技术组成，允许将薄膜沉积到广泛的基板上。该系统的紧凑设计使其能够适应许多生产领域,并方便地访问其组件。Cantata溅射装置由真空沉积室、蒸发源、转盘、工艺控制装置和真空泵机组成。真空工具由前真空室、初级真空室和负载锁组成。蒸发源是由陶瓷或石英crucibles制成的，最多可配备三个目标。转盘允许几种基板同时加工，大大提高了生产率。TECPORT Cantata先进的过程控制资产提供了精确一致的沉积速率，从而产生了始终如一的高质量零件。该模型能够将几层材料沉积到基板上，包括铝、金和各种氧化物层。Cantata设备产生的零件具有优异的电气和光学性能,非常适合各种应用。TECPORT Cantata溅射系统也极易操作。它利用用户友好的触摸屏界面，使操作员能够快速设置和运行其沉积过程。该单元还具有多种诊断工具，允许操作员实时监控流程，并进行任何必要的调整。所有这些特性使Cantata成为几乎所有工业真空沉积应用的理想解决方桉。TECPORT Cantata溅射机设计为提供可靠、可重复、高效的沉积工艺。其先进的特点，加上紧凑的尺寸，使其非常适合大型和小型生产。凭借其强大的真空沉积技术，Cantata为运营商提供了一个通用且经济高效的工业应用解决方桉。
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