二手 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 364 #9202788 待售

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ID: 9202788
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Sputtering system, 12" Nimbus XP-RDL system (354): 8"/12" Includes: MAGNETRON: G1 HP (Ti) MAGNETRON: G1 HP (W) MAGNETRON: G1 HP (Al) (3) MAGNETRONS : AL HP (Al) ICP Etch Second cryo pump: Deposition chamber RF Substrate bias Load lock degas (2) ESC Trays: 12" Additional cable length EMO State SECS/GEM 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 364是专为半导体和光子应用而设计的最先进的溅射系统。它为制造LED、太阳能电池、显示器和图像传感器等复合半导体器件提供了高度的工艺控制和精度。TEL Nimbus 364的高级DC和Hi-Bias射频溅射工艺提供业界领先的工艺能力。它利用动态过程控制(DPC),这是一种先进的溅射技术,通过控制电源振幅和负偏置脉冲频率,可以对沉积量进行精细调整。这种工艺控制能力保证了优质材料的生产,并具有一致的重复效果。NEXX Nimbus 364还具有双频电源,提供高达480W的高功率级别,同时还提供了双频操作的灵活性。这种双重能力有助于减少沉积过程中电弧的发生率,从而提高整个过程的精度。此外,"窗口"联锁安全功能有助于防止在过程中检测到任何故障时损坏基板或部件。该系统独特的负载锁允许快速、方便地装载和卸载基板支架,确保快速、高效的操作。类似金刚石的碳涂层增强了腔室和基板的性能,提供了更高的精度和更高的耐用性。高温限值设置为368.2 °C,可提供卓越的热容量,而方便、符合人体工程学的控制面板可提供对过程的一次触摸控制。Nimbus 364为操作员提供了可靠一致的溅射工艺,专为满足当今半导体应用的要求而设计。TOKYO ELECTRON Nimbus 364系统凭借其先进的工艺控制能力、优越的材料规格以及增强的耐用性,是满足半导体行业不断发展的需求的有效解决方桉。
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