二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9051782 待售

ULVAC Ceraus Z-1000溅射设备是一种用于金属和其他薄膜物理气相沉积的高性能工具。溅射系统利用先进的薄膜沉积技术，实现了精密的薄膜沉积，具有极好的重复性和较高的沉积比，具有较高的均匀性和厚度性能，且刀具之间的变化较小。该单元由三个允许独立运行的2腔系统和多达六个差动泵送节点组成，以实现优异的真空性能。此外，Ceraus Z-1000机器具有双过程能力，能够同时进行两个沉积过程，最多可有12个溅射源。ULVAC Ceraus Z-1000工具配备接地阴极平面（GCP）技术,是一种创新的电子轰击辅助溅射原位控制。GCP技术保证了基板的最佳偏置和优越的均匀性控制.该资产设计用于半导体沉积，包括电介质、金属、多应变材料和钝化层，以及半导体生产中经常使用的其他层。它具有几种用户友好的功能,如自动配方控制、双室溅射功能和易于使用的过程控制。各种控制功能和操作都可以使用用户友好的软件进行配置。其中包括重复运行、配方设置、温度和气体控制以及速率监测和反馈。这样就可以对沉积过程进行更好的控制。Ceraus Z-1000模型还能够进行均匀的薄膜沉积和涂层，以及对沉积过程进行先进的"原位"监测，以确保高质量的结果。具有高度均匀沉积角度的侧壁溅射源有助于薄膜在晶片上均匀均匀。ULVAC Ceraus Z-1000专为要求苛刻的半导体工艺应用而设计,它提供一流的性能和令人印象深刻的可重复性。它提供了在溅射过程中可靠的薄膜沉积所需的高级特性，使其成为一种高度可靠的工具。