二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #196190 待售

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ULVAC Ceraus ZX-1000
已售出
製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 196190
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
PVD sputtering system, 8" H2 anneal + (2) PVD chambers Built-in SMIF Software version 2.11C Vacuum pump included Cu contamination 2001 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一种用于将薄膜材料沉积到各种基板上的溅射设备。该系统采用磁控管溅射技术,可沉积高纯度、粘附膜,具有良好的步长覆盖率和良好的可重复性。该装置还具有较高的过程吞吐量和可靠的过程控制机。该工具采用线性轨道设计,可实现更高的沉积速率,从而实现有效的零点性能。轨道有一个大的8×8英寸的工艺区域,每个基板位置都有独立的位置调整。对于更精确的薄膜沉积,每种底物都可以在定位器内单独调节。该资产还具有三个工艺室-两个用于Sputter和一个可选的沉积室-它们可以独立操作或以溷合模式运行,以优化薄膜涂层。该模型能够沉积金属、合金、陶瓷材料、有机材料等多种薄膜材料。它具有广泛的溅射目标、沉积排放和加工气体。该设备还采用了具有原位烘烤能力的真空排气系统。ULVAC CERAUS ZX 1000具有执行二维和三维沉积模式的能力,其自动扫描模式控制以及为各种应用程序配置一系列体系结构的灵活性。该装置非常方便用户,在沉积过程中能够精确控制。它有一个可视操作屏幕,使快速设置和易于监控。集成的数据链路提供了目标和基板之间沉积数据的实时传输,以最大限度地提高产品的整体质量。监测工艺水平,调整功率和电流,以便为沉积提供最佳条件。可以存储和调用设置以实现进程可重复性。Ceraus ZX-1000专为超高沉积速率而设计,适用于各种工业应用,从半导体器件的生产到先进材料的原型设计。它是一种可靠高效的机器,能够生产高质量的薄膜涂层,具有极好的可重复性。
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